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KT-Z1650PVD是一款小型濺射儀 直流濺射鍍膜儀功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動擋板功能。通過定時調(diào)節(jié)預濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。

小型臺面式熱蒸發(fā)鍍膜儀是一款小型臺式蒸發(fā)功率可控蒸發(fā)鍍膜儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動擋板功能。通過定時調(diào)節(jié)預熱功率及蒸發(fā)功率，可對大部分金屬進行均勻蒸發(fā)沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜和有機物薄膜。

此款單靶磁控濺射儀主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導電膜（金膜），儀器操作簡單方便，設備配有微量充氣閥調(diào)節(jié)工作真空，在 20Pa 真空保護。同時，配有進氣口和微量充氣調(diào)節(jié)裝置，以方便空氣或氬氣等工作氣體充入。

KT-Z1650PVD是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動擋板功能。通過定時調(diào)節(jié)預濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。

KT-S2DQX型真空等離子清洗電源屬于150W 13.56MHz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設備，主要應用于半導體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗，塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學實驗等